作成日:2024-05-14 ・更新日:2024-06-10
フォトグラメトリで作成されたハイポリゴンからローポリゴンのテクスチャを作成する方法を紹介
フォトグラメトリで作られたハイポリの3dモデルのテクスチャー画像をローポリに転写・ベイクする。
ハイポリからローポリにテクスチャをベイクします。ベイクは主にハイポリのノーマルマップが欲しいときによく使いますが、今回はテクスチャー画像をベイクします。
ベイクはオブジェクトの位置情報をもとに処理されるので、位置やスケールを合わせておく方が良いです。
ローポリのオブジェクトに対して次の設定をします。
シームを入れて展開するのが理想ですがスマートUVでも可
オブジェクトの操作は以上です。
次にベイクの設定をします。
レンダリングエンジンをcyclesに設定します。
PCにGPUがある場合は時間削減のため、デバイスをGPU Computeに切り替えてください。
ベイクの設定を次のようにします。必要に応じてケージの値を変更してください。ケージについてはベイク関連でよく出てきますが... 説明すると長くなるので、ノイズがたくさん乗る場合は数値をもっと小さくしてみてください。オブジェクトによって適切な数値があるので、0や100など極端な数値は良くない。
準備ができたらベイクを開始します。
そこそこ時間がかかります。
bakeが反映されない時
設定は合っているのにベイクしても変化ない事が多々あるため、確実な方法としてlow選択肢、編集モードに切り替えます。その後、highをctrlを押しながらクリックして選択してください。
以下映像は選択方法のサンプルです。実際ベイクする際は位置を重ねてください。
ローポリのテクスチャー画像も上手く生成され、モデルを見ても問題なさそうです。
フォトグラメトリが安価に誰でもできるようになったのでこんな感じでテクスチャをベイクできます。
また、ブレンダーのシェイダーで作成調整したものを他のソフトに持っていくときはも使います。
スキャンしたモデルをブレンダーで読み込むとかなり遅くなるので、zbrushで不要なポリゴンを削除するのが良いよな~
もうサブスクしかないけど...
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